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[实用新型]高精度CMP不锈钢抛光装置-CN201721893554.4有效
发明人：吕鸿图 -专利权人：昆山纳诺新材料科技有限公司
申请日： 2017-12-21 - 公布日： 2018-08-07 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了高精度CMP不锈钢抛光装置，包括机械抛光室和化学抛光室，机械抛光室和化学抛光室之间设置有工作传输轨道，工作传输轨道起始段设置有传输电机，机械抛光室内部设置有抛光轮，机械抛光室末端外侧设置有吸尘设备，化学抛光室上方安装有化学抛光液储存罐和蒸馏水储存罐，化学抛光液储存罐和蒸馏水储存罐下方均设置有液体喷头，化学抛光液储存罐以及蒸馏水储存罐与液体喷头之间通过管道相连接，化学抛光室底部设置有废弃抛光液存放池化学抛光液储存罐和蒸馏水储存罐均设置有调节阀门，以此来调节化学抛光液的浓度，液体喷头也设置有喷速调节器，从而改变化学抛光液的抛光时间，从双方面提升了化学抛光的精度。
化学抛光液化学抛光蒸馏水储存罐机械抛光储存罐液体喷头不锈钢抛光传输轨道本实用新型调节器传输电机外侧设置吸尘设备抛光存放池抛光轮抛光液起始段室内部阀门废弃

[发明专利]用于GaAs晶片的化学抛光溶液和化学抛光方法-CN200910001587.7无效
发明人：谭开燮;古燕;王元立 -专利权人： AXT公司
申请日： 2009-01-15 - 公布日： 2010-07-21 - 主分类号： C09G1/18 文献下载
摘要：本发明涉及用于GaAs晶片的化学抛光溶液和化学抛光方法。本发明的用于GaAs晶片化学抛光的化学抛光溶液，除水以外，其组成是二氯代异氰尿酸盐、磺酸盐、酸式焦磷酸盐、碳酸氢盐和碳酸盐。本发明的化学抛光方法，包括在化学抛光设备中，在所述抛光溶液存在下对晶片实施化学抛光。采用本发明的溶液和方法可以提高晶片质量、降低成本并能够降低对环境的污染。
用于 gaas 晶片化学抛光溶液方法

[发明专利]化学抛光试剂及其制备方法和应用-CN202211564427.5在审
发明人：彭晓林;汪陈;丁雄风;王世军 -专利权人：维达力科技股份有限公司
申请日： 2022-12-07 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： C03C15/02 文献下载
摘要：本申请涉及一种化学抛光试剂及其制备方法和应用。该化学抛光试剂包括如下质量份数的各组份：0.8份～15份的碱性试剂、0.05份～0.5份的表面活性剂以及83.5份～99.05份的多元醇溶剂。上述化学抛光试剂中使用多元醇类有机溶剂，使用该化学抛光试剂对玻璃进行消除微裂纹加工时，可使化学抛光的反应体系温度更高，增强化学抛光试剂对产品的抛光能力，在升温过程中，多元醇与碱性试剂发生反应，生成有机碱有机碱能够提升化学抛光试剂对玻璃的腐蚀性，从而对玻璃实现较好的化学抛光效果，消除微裂纹以增强玻璃的强度。
化学抛光试剂及其制备方法应用

[发明专利]提高铝合金焊接接头疲劳强度的电化学抛光系统-CN201510287813.8有效
发明人：付宁宁;朱伟;夏宁;王红波;丁洁琼;张玉娟 -专利权人：南京南车浦镇城轨车辆有限责任公司
申请日： 2015-05-29 - 公布日： 2015-08-19 - 主分类号： C25F3/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种提高铝合金焊接接头疲劳强度的电化学抛光系统，包括：可更换的抛光头、高压气体装置、陶瓷喷丸存储装置、电化学抛光液存储装置、和智能化电化学抛光控制装置；高压气体装置、陶瓷喷丸存储装置、电化学抛光液存储装置、智能化电化学抛光控制装置均与抛光头相连；智能化电化学抛光控制装置内置专家数据库，专家数据库中包含各种推荐电化学抛光工艺参数；陶瓷喷丸存储装置，内储存有粒径为50um~80um的超细陶瓷丸粒；电化学抛光液存储装置内存贮有电化学抛光液通过本系统对工件抛光，从而提高金属结构件的抗疲劳、抗腐蚀能力。
提高铝合金焊接接头疲劳强度电化学抛光系统

[发明专利]一种锑化铟晶片化学抛光方法-CN201510014588.0有效
发明人：赵超;程鹏 -专利权人：中国电子科技集团公司第十一研究所
申请日： 2015-01-12 - 公布日： 2017-08-08 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：本发明提出了一种锑化铟晶片化学抛光方法。其中，机械化学抛光完成后，将粘结有锑化铟晶片的抛光盘倒置于盛有0.005％～10％的溴甲醇化学抛光液的抛光槽内，使得所述锑化铟晶片的表面朝向所述抛光槽的底部并且所述锑化铟晶片浸没于所述溴甲醇化学抛光液中，以进行化学抛光。采用这种化学抛光方法可以明显降低锑化铟晶片表面的粗糙度，去除表面的损伤，提高晶片表面的平滑度。
一种锑化铟晶片化学抛光方法

[发明专利]硅片加工装置及方法-CN201310432624.6在审
发明人：王坚;贾照伟;王晖 -专利权人：盛美半导体设备(上海)有限公司
申请日： 2013-09-22 - 公布日： 2015-03-25 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明揭示了一种硅片加工装置，包括机台，该机台内配置有两套或两套以上电化学抛光装置，每套电化学抛光装置包括：抛光液槽，抛光液槽储存抛光液；及抛光腔室，抛光腔室内设置有喷嘴，喷嘴与抛光液槽之间经由抛光液供应管道连接；各套电化学抛光装置的抛光液槽内储存相同或不同的抛光液。本发明还揭示了一种硅片加工方法，包括使硅片依次在机台的各电化学抛光装置内进行电化学抛光处理，其中各电化学抛光装置内配置相同或不同的抛光液。本发明根据加工需求，在机台内配置数套电化学抛光装置，提高了机台加工效率。
硅片加工装置方法

[发明专利]一种支架的电化学抛光装置和抛光方法-CN201510821195.0在审
发明人：程兴宝;向勇刚;包红峰;张林飞;罗永春 -专利权人：常州乐奥医疗科技有限公司
申请日： 2015-11-24 - 公布日： 2016-03-09 - 主分类号： C25F3/16 文献下载
摘要：本发明提供了一种支架的电化学抛光装置和抛光方法，主要适用于医用金属支架的电化学抛光。该支架电化学抛光装置的特征：该装置包含金属阳极、圆筒状结构金属阴极及电化学抛光槽等，进行电化学抛光时，可使电流均匀分配到支架的各个部位。该装置适用于金属支架的电化学抛光，例如镍钛合金支架、钴铬合金支架、不锈钢合金支架及钛合金支架等。用于改善支架内表面在电化学抛光时出现的凹坑、凸起及不光亮现象，提高支架内表面电化学抛光效果，使支架的内表面与外表面都能达到良好的镜面效果。本发明亦能改善支架头端去除量大的问题，提高支架抛光的均匀性，使支架获得光滑光亮的金属表面。
一种支架电化学抛光装置方法

[发明专利]一种化学抛光液及化学抛光工艺-CN201810137423.6有效
发明人：徐艳春;唐明松 -专利权人：深圳市祥盛兴科技有限公司
申请日： 2018-02-10 - 公布日： 2019-03-22 - 主分类号： C23F3/06 文献下载
摘要：本发明属于铜材抛光技术领域，具体涉及一种化学抛光液及化学抛光工艺。本发明提供的化学抛光液，包括以下组分及其质量浓度：密度为1.84g/cm³的硫酸30～45mL·L^‑1，双氧水200～350mL·L^‑1本发明提供的化学抛光液不含硝酸、磷酸，无毒、无污染。使用本发明的化学抛光液对金属表面进行化学抛光得到的化学抛光面光亮度高、表面平整，可达到镜面抛光效果。另外，本发明提供的化学抛光工艺的工艺流程简单，操作方便。
化学抛光液化学抛光工艺化学抛光双氧水抛光技术领域双氧水稳定剂表面活性剂表面平整金属表面镜面抛光工艺流程络合剂硝酸磷酸铁盐铜材硫酸无毒

[发明专利]一种血管支架激光切割工艺-CN202210438077.1在审
发明人：杜瑞林;王金铭 -专利权人：杭州巴泰医疗器械有限公司
申请日： 2022-04-25 - 公布日： 2022-08-09 - 主分类号： B23K26/38 文献下载
摘要：本发明属于医疗器械加工设备技术领域，尤其涉及一种血管支架的激光切割工艺，在血管支架的两端加上电化学抛光夹持点，并通过电化学抛光夹持点连接多个血管支架进行激光切割和电化学抛光，并在电化学抛光结束后，从电化学抛光夹持点处对单个支架进行剪切分离本发明将单个支架加上电化学抛光夹持点，再将多个支架加工图拼接在一起后作为一个整体加工，减少了激光切割机在重复切割时进给运动的次数，节省了大量的加工时间；抛光夹持点的设置可以避免电化学抛光过程中对支架自身的损伤，保证支架的外观质量和性能；还可以同时对它们进行电化学抛光，抛光结束后再将单个支架从抛光夹持点处剪断即可，同样节省了大量的时间。
一种血管支架激光切割工艺

[发明专利]一种用于多注速调管中的控制极的处理方法-CN202110883548.5在审
发明人：张帅;王小霞;罗积润;吴质洁 -专利权人：中国科学院空天信息创新研究院
申请日： 2021-08-02 - 公布日： 2021-12-21 - 主分类号： H01J9/02 文献下载
摘要：本公开提供了一种用于多注速调管中的控制极的处理方法，包括将控制极浸入碱洗液中，在超声状态下进行去污处理；对经过所述去污处理的所述控制极清洗后，将所述控制极浸入化学抛光液中进行化学抛光处理；对经过所述化学抛光处理的所述控制极清洗后，将所述控制极浸入电化学抛光液中进行电化学抛光处理；对经过所述电化学抛光处理的所述控制极清洗后，进行干燥处理。
一种用于速调管中的控制处理方法

[发明专利]一种锌合金化学抛光处理方法及其溶液-CN200810120008.6有效
发明人：宋振纶;沈素峰;应华根;李建忠 -专利权人：中国科学院宁波材料技术与工程研究所
申请日： 2008-07-21 - 公布日： 2010-01-27 - 主分类号： C23F3/06 文献下载
摘要：本发明提供一种锌合金化学抛光处理方法和溶液，其步骤为：a.前处理，是将锌合金工件进行除油、清洗；b.化学抛光，将除油、清洗后的锌合金工件浸渍于化学抛光溶液中；c.后处理，抛光完成后，进行清洗、烘干处理。其中，化学抛光溶液是以水为溶剂，主要包括：硝酸、磷酸、硫酸、硫脲。化学抛光溶液把一些普通酸和有机物混合配制，成分简单，便于控制，抛光效果好，可与其他化学处理环节配合使用。
一种锌合金化学抛光处理方法及其溶液

[发明专利]大块非晶及纳米晶合金表面化学抛光技术及抛光液-CN201410052193.5有效
发明人：汤铁装 -专利权人：东莞宜安科技股份有限公司
申请日： 2014-02-14 - 公布日： 2014-05-14 - 主分类号： C23F3/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种大块非晶及纳米晶合金表面化学抛光技术，包括化学抛光处理的常规工艺：机械前处理→碱洗除油→热水洗→稀硝酸→水洗→烘干，以及常规工艺烘干工序后的工艺为：化学抛光→水洗→钝化→中和→热水洗→烘干本发明还提供了所述大块非晶及纳米晶合金表面化学抛光技术使用的由抛光剂主体、辅助剂、表面活性剂、稳定剂及光亮剂组成的化学抛光液及其材料成份为，针对于用金属模铸法或者粉末冶金法得到有较大边缘毛刺以及表面流纹采用本发明所进行的化学抛光处理，处理的效果明显优于机械抛光，可与电化学抛光相媲美，本发明化学抛光处理的投资小，加工成本低，工艺流程短，控制要素合理且简单。
大块纳米合金表面化学抛光技术抛光

[实用新型]化学抛光用磷/硫混合酸的在线再生系统-CN202022196817.4有效
发明人：吴志宇;王怡璇;黎建平 -专利权人：深圳市世清环保科技有限公司
申请日： 2020-09-29 - 公布日： 2021-11-12 - 主分类号： C23F3/03 文献下载
摘要：一种在对铝件制品进行化学抛光的工艺过程中，能实时清除因化学抛光在化学抛光液中产生的金属离子团的化学抛光用磷/硫混合酸的在线再生系统。其采用按重量百分比组分为：纳米级硅酸盐、磷酸铝、硫酸铝、硅藻土、羧甲基纤维素和水组成的再生剂对化学抛光槽中的磷/硫混合酸进行再生，通过自动过滤循环系统将化学抛光槽中的金属离子团滤除。其打破传统加碱中和废酸处理技术及目前的“滞后式”的处理模式，提出铝合金阳极氧化化学抛光液的槽边在线循环处理新模式。其可实现化学抛光产品的质量稳定统一，保证整个工序的稳定性。该在线再生的循环利用技术，可实现化学抛光液的零排放，符合清洁生产的目的，达到了良好的环境效益和社会效益。
化学抛光混合在线再生系统

[发明专利]一种烧结钕铁硼永磁材料化学抛光液及处理方法-CN200910100368.4有效
发明人：宋振纶;李建忠;应华根;杨恒修;吴浩杰 -专利权人：中国科学院宁波材料技术与工程研究所
申请日： 2009-07-09 - 公布日： 2010-02-03 - 主分类号： C23F3/06 文献下载
摘要：本发明涉及一种烧结钕铁硼永磁材料化学抛光液及处理方法，化学抛光溶液其以水为溶剂，主要包括：硝酸、磷酸、硫酸三种溶质；其处理方法为先将钕铁硼永磁体进行碱洗脱脂；然后将烧结钕铁硼永磁体浸入上述化学抛光液中抛光，在化学抛光时，烧结钕铁硼磁体需要翻动，其浸蚀抛光时间为10～120s，再将化学抛光后的钕铁硼永磁体清洗、活化，即可完成抛光过程；抛光后还可以再采用低浓度硝酸去除氧化膜、弱碱性的有机酸根盐柠檬酸三钠中和表面残酸该抛光溶液成分简单，便于管控，且所得到的化学抛光面光泽度好、表面平整，并且可以和其他化学处理环节混合使用。
一种烧结钕铁硼永磁材料化学抛光处理方法

[发明专利]镁合金电化学抛光液及其对镁合金处理的方法-CN201310023958.8无效
发明人：杨升攀 -专利权人：汉达精密电子（昆山）有限公司
申请日： 2013-01-23 - 公布日： 2014-07-23 - 主分类号： C25F3/18 文献下载
摘要：一种镁合金电化学抛光液，按重量百分比计算，其包括多元醇55～80%；有机酸1～10%；磷酸1～5%；纯水15～35%。另外，还提供一种镁合金电化学抛光液对镁合金处理的方法，其包括如下步骤：对镁合金进行脱脂处理；在20～25℃，电压6～20V的条件下，将上述镁合金放入所述镁合金电化学抛光液中进行电化学抛光处理2～30min；将电化学抛光处理后的镁合金进行烘烤。本发明具有以下优点：镁合金进行电化学抛光之前无需预处理；经电化学抛光后的镁合金具有较高的光泽度；且可以控制抛光时间的长短来获得不同光泽度的镁合金产品；该电化学抛光液的废水处理简单，且经过过滤处理后可以重复使用
镁合金电化学抛光及其处理方法

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